Leistungsangebot
Das IFOS entwickelt UKP-Lasersysteme, Mikrobearbeitungsprozesse, Systemtechnik. Im Fokus stehen die Oberflächenfunktionalisierung, die Prozessintegration sowie Job-Shop. Mit hochpräziser Messtechnik können Oberflächen bis zu atomarer Genauigkeit analysiert werden.

Historie
Das neue IFOS entstand 2024 als Fusion aus dem alten IFOS, mit über 30-jähriger Expertise im Bereich der Oberflächen- und Schichtanalytik und dem PZKL mit mehr als 10 Jahren Erfahrung im Bereich der optischen Technologien, speziell Lasermikromaterialbearbeitung und Systemtechnik.

Produkte
• Prozessentwicklung
• Automatisierte UKP-Lasermaterialbearbeitung (Systemtechnik)
• Job-Shop
• Oberflächenfunktionalisierung (Plasmaätzen und UKP-Laser)
• Strahlquellenentwicklung (Sondersysteme)
• Hochpräzise Analyse von Oberflächen, dünnen Schichten und Festkörpern
o Topographie / Morphologie (REM, AFM, FIB, WLI)
o Oberflächenchemie (XPS, ToF-SIMS, FR-IR)
o Laterale Verteilung von Elementen (SIMS, EDX, AES, XPS)
o Schichtaufbau (XRR, TEM/FIB, SNMS/SIMS, AES/XPS)
o Kristallstruktur (XRD, TEM, EBSD)
o 3D-Analyse (AES, ToF-SIMS, 3d-APT)